POLOS生产的BEAM XL Mk2无掩模光刻机
-0.1 µm 重复性和 6" 平台行程
-0.8 微米分辨率

特点
- 20x/0.75 NA 尼康紫外校正物镜
- 用于样品观察和多层对准的外延照明
- 全高清 120 FPS CMOS 摄像机，用于实时和无延迟观察
- 光学器件内置闭环自动对焦功能
- 压电驱动 Z 轴，实现快速自动对焦
- 用于系统控制的单 USB 3.1 接口

规格
- 最小线宽：0.8 微米
- 平台双向重复性：0.1 微米
- 曝光波长：405 纳米
- 最大写入区域：400 微米
- 写入区域 155 * 155 毫米（兼容 6 英寸）
- 随附 BEAM Xplorer 软件
- 包括高性能笔记本电脑。