POLOS生产的BEAM Mk2 无掩模光刻机
- 0.1 µm 重复性和 4" 平台行程
-分辨率为 0.8 微米

特点：
- 20x/0.75 NA 尼康紫外校正物镜
- 用于样品观察和多层对准的外延照明
- 全高清 120 FPS CMOS 摄像机，用于实时和无延迟观察
- 光学器件内置闭环自动对焦功能
- 压电驱动 Z 轴，实现快速自动对焦
- 用于系统控制的单 USB 3.1 接口

规格参数：
最小线宽：0.8 微米
载物台双向重复性：0.1 微米
曝光波长：405 纳米
最大写入区域：400 微米
写入面积：106×106 毫米（兼容 4 英寸）
包含 BEAM Xplorer 软件
包含高性能笔记本电脑